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龙图光罩宣布90nm节点掩模版量产

材料来源：龙图光罩官微

据龙图光罩官微消息，国内独立第三方半导体掩模版厂商龙图光罩珠海项目顺利投产，公司第三代掩模版PSM产品取得显著进展。公司KrF-PSM和ArF-PSM陆续送往部分客户进行测试验证，其中90nm节点产品已成功完成从研发到量产的跨越，65nm产品已开始送样验证，公司在高端制程的影响力进一步增强，覆盖的下游领域更加丰富。

与此同时，龙图光罩始终保持与核心客户的紧密协作，不断深化与国内头部晶圆厂的战略合作关系。近期，更高制程节点的产品已在某全球领先的晶圆代工厂完成产品流片，在线收集的各项关键验证数据均满足客户要求。该节点验证通过后，将可覆盖该客户三分之一以上的产品需求。此外，更高等级的产品亦在进行前期的工艺匹配，预计下半年将开始流片验证，届时公司将可以覆盖该客户绝大部分需求，为公司的长远发展奠定良好的基础。

资料显示，深圳市龙图光罩股份有限公司自2024年完成科创板挂牌上市以来，不断增加投入进行技术攻关和产品迭代，半导体掩模版工艺能力从130nm逐步提升至65nm，并已完成40nm工艺节点的生产设备布局，产品广泛应用于信号链及电源管理IC等成熟制程，以及功率器件、MEMS传感器、先进封装等特色工艺制程。

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